Litografické techniky (KRÁLÍČEK - JELCOV)

V posledním desetiletí se litografické techniky rozvíjejí závratným tempem, jak v oblasti polygrafie, tak především v oblasti mikroelektroniky. Důkazem tohoto rozvoje jsou nejen stovky vědeckých publikací ve světové literatuře, ale i soudobá aplikace litografických technik ve výrobě procesorů a integrovaných obvodů, které nacházejí použití ve všech odvětvích národního hospodářství. Celosvětový trend litografie je orientován do mikrometrových a submikrometrových rozměrů strukturních prvků. Z toho vyplývá jak rozvoj přístrojové techniky (expozičních a leptacích zařízení), tak i rozvoj nových, speciálních typů materiálů pro přenos informací. Tyto metody a materiály mají potenciál pro využití limitních možností fotolitografie a jsou rozšiřovány do oblastí expozice svazkem elektronu a rentgenového záření, čímž se postupně přibližují limitu funkčních schopností křemíku.

Kniha je v oblasti litografických technik v oboru polygrafie zaměřena na procesy, které ovlivňují vlastnosti a kvalitu ofsetových forem, jako jsou typy podložek a jejich ovrstvování, expozice, vyvolávání, adheze k podložce, hydrofobnost apod. Podrobně jsou popsány nejnovější typy kopírovacích vrstev, mechanismus jejich účinku a na základě posledních údajů z odborné literatury jsou kriticky zhodnoceny trendy dalšího vývoje.

V oblasti litografických technik v mikroelektronice je proveden teoretický rozbor faktorů, které ovlivňují limity litografického záznamu jak ve fotolitografii, tak i v elektronové a rentgenové litografii. Dále je proveden rozbor technologických faktorů, které ovlivňují kvalitu záznamu ve vrstvě Si02, jako jsou: čistota podložky, hydrofobizace povrchu podložky, adheze, filmotvornost rezistů, předexpoziční ohřev, expozice, poexpoziční ohřev, mokrý a plazmatický izotropní a anizotropní lept a stripování, především s ohledem na přípravku prvku vysokého a velmi vysokého stupně integrace (LSI a VLSI). Detailně je podán i přehled vícevrstvé fotolitografie v blízké UV oblasti. Speciální důraz je kladen na popis nových rezistů pro jednotlivé litografické techniky a na rozdíly v mechanismu jejich účinků. Kniha podává fyzikálně chemické základy litografických technik v celé šíři oboru a obsahuje nejnovější dostupné literární odkazy a data.